吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表...

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。

吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光

吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光

吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光

无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产——氧化铈抛光液，稀土抛光液，纳米氧化铈抛光液，氧化铈粗抛液，氧化铈精抛液吉致电子氧化铈​抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，...

无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产——氧化铈抛光液，稀土抛光液，纳米氧化铈抛光液，氧化铈粗抛液，氧化铈精抛液产品特点：吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量...

吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面

吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面产品工艺及用途：以分级后...

吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面.

吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面.

产品特点：吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面产品工艺及用途...

吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光

磨料类型：金刚石微粉磨料规格：单晶金刚石/多晶金刚石/类多晶金刚石/纳米级金刚石磨料粒径：全粒径可定制产品特点：吉致电子金刚石研磨液/金刚石悬浮液（又名钻石研磨...

吉致电子金刚石抛光液在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率。适用于金属/陶瓷/晶体/蓝宝石/LED材料/SiC表面等抛光

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。产品工艺及用途：通过离子交换...

产品特点：吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。产品工艺及用途：通过离子交换...

无锡吉致电子科技有限公司主要研发生产产品为：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料，已有25年的研发经验。产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬...

吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。

吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。